ZO SKIN COMPLEXION CLEARING PROGRAMME ANTI-IMPERFECTIONS

Le ZO Skin Complexion Clearing Program est une routine complète de soins spécialement conçue pour les peaux grasses, mixtes ou à tendance acnéique. Il vise à réduire l’excès de sébum, désobstruer et purifier les pores, exfolier les cellules mortes et prévenir l’apparition de nouvelles imperfections.

Le programme comprend quatre produits en taille standard :

• Exfoliating Cleanser (200 ml) : nettoyant exfoliant
• Exfoliating Polish (65 g) : exfoliant mécanique
• Complexion Renewal Pads (60 pads) : tampons exfoliants et purifiants
• Complexion Clearing Masque (85 g) : masque à l’argile et au soufre pour purifier et traiter les imperfections.

Il est idéal pour les personnes ayant la peau grasse, mixte, sujette aux brillances, aux pores dilatés, aux éruptions cutanées ou à l’acné.

• Réduit l’excès de sébum en surface
• Exfolie et désobstrue les pores
• Prévient et traite les imperfections
• Laisse la peau plus nette, lisse et équilibrée

• Étape 1: Nettoyer matin et soir avec Exfoliating Cleanser sur peau humide, puis rincer.
• Étape 2: Exfolier 2 fois/semaine avec Exfoliating Polish sur peau humide, masser en mouvements circulaires puis rincer.
• Étape 3: Tonifier matin et soir avec un pad Complexion Renewal sur l’ensemble du visage et du cou.
• Étape 4: Masque 2 à 3 fois/semaine le soir, appliquer Complexion Clearing Masque en couche fine sur les zones concernées, laisser poser 10-15 minutes puis rincer. Peut aussi s’utiliser en soin localisé sur les boutons.

Oui, les pads et le masque peuvent également être appliqués sur le cou, la poitrine ou le dos en cas d’imperfections corporelles.

Utilisez une protection solaire quotidienne, car l’exfoliation et certains actifs peuvent augmenter la sensibilité au soleil. Adaptez la fréquence selon la tolérance de votre peau et évitez le contour des yeux.

La peau devient rapidement plus nette, moins brillante, les pores sont resserrés et les imperfections diminuent dès les premières semaines d’utilisation régulière.